水素材料先端科学研究センター

研究設備

二次イオン質量分析装置(SIMS)

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二次イオン質量分析装置
   最も軽い(=検出困難な)元素である水素原子を高精度で検出可能
 
   イオン源: セシウム(Cs)
   検出下限: Si中のHの場合,7E16 at./cm3以下
   面分解能: 1μm以下
   分析可能領域: 35μm〜250μm径
 
   高圧水素または液化水素と接触する金属材料の水素脆化(水素が材料中に侵入することによって金属材料が脆くなる現象)は、水素を長期間、安全に使用していくために早急に解明しなければならない課題です。
   本装置は、き裂先端近傍に存在し金属材料の強度・変形に影響を及ぼす局所水素の分布を測定することによって、水素雰囲気下での強度・変形過程を明らかにします。
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